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日本KEYENCE激光刻印機,三軸混合式激光刻印機

簡要描述:

日本KEYENCE激光刻印機,三軸混合式激光刻印機
全面保護激光照射部鏡頭,防止產生臟污、損傷。墊圈與保護玻璃體成型,因此*不需要復雜的安裝步驟或特別技巧來進行擰緊調整??稍诂F場輕松安裝,避免鏡頭臟污造成的輸出降低。

更新時間:2024-03-19
訪問量:5267

日本KEYENCE激光刻印機,三軸混合式激光刻印機      
全面保護激光照射部鏡頭,防止產生臟污、損傷。墊圈與保護玻璃體成型,因此*不需要復雜的安裝步驟或特別技巧來進行擰緊調整??稍诂F場輕松安裝,避免鏡頭臟污造成的輸出降低。
類型
刻印裝置(控制器 + 刻印頭) 13 W 型 標準面積型
刻印裝置(控制器 + 刻印頭) 13 W 型 大面積型
刻印裝置(控制器 + 刻印頭) 13 W 型 小光斑型
刻印裝置(控制器 + 刻印頭) 25 W 型 標準面積型
刻印裝置(控制器 + 刻印頭) 25 W 型 大面積型
二維碼讀取器 ADD-IN (選購件)
MD-XAD1 / MD-XAD1A
觸摸屏 (選購件)
MC-P1
刻印方式
XYZ 三軸同時掃描方式
刻印激光
類型


YVO4 激光 4 類激光產品 (IEC60825-1、FDA (CDRH) Part 1040.10)*1
波長
1064 nm
輸出
13W
25 W
Q 開關頻率
CW (連續輸出)、1 400 kHz
導引激光/工作距離指示器
半導體激光 波長: 655 nm 輸出: 1.0 mW 2 類激光產品 (IEC60825-1、FDA (CDRH) Part 1040.10)*1
刻印范圍
125 x 125 x 42 mm
330 x 330 x 42 mm
50 x 50 x 30 mm
125 x 125 x 42 mm
330 x 330 x 42 mm
標準工作距離 (±可變寬度)
189 mm (±21 mm)
300 mm (±21 mm)
100 mm (±15 mm)
189 mm (±21 mm)
300 mm (±21 mm)
刻印分辨率
2 µm
5 µm
1 µm


2 µm
5 µm
掃描速度
zui大 12000 mm/s
zui大 8000 mm/s
zui大 6000 mm/s
zui大 12000 mm/s
zui大 8000 mm/s
刻印類型

日本KEYENCE激光刻印機,三軸混合式激光刻印機   
字體
原版字體 (數字、英文字母、片假名、平假名、日本漢字)/用戶字體、TrueType字體、OpenType字體*2
條碼
CODE39/ITF/2of5/NW7 (CODABAR)/JAN/CODE128/EAN/UPC-A/UPC-E
二維碼
QR 碼/微型 QR 碼/DataMatrix (ECC200/GS1 DataMatrix)
GS1 DataBar
GS1 DataBar/GS1 DataBar CC-A/GS1 DataBar Stacked/GS1 DataBar Stacked CC-A/GS1 DataBar Limited/
GS1 DataBar Limited CC-A/GS1 DataBar Truncated/GS1 DataBar Truncated CC-A
徽標圖像
自定義字符字體、徽標 (CAD)數據 BMP/JPEG/PNG/TIFF
刻印條件
刻印狀態 (工件狀態)
靜止、移動 (等速、編碼器)
刻印尺寸 (字符高度/ 寬度)
0.1 125 mm
0.1 330 mm
0.1 50 mm
0.1 125 mm
0.1 330 mm
注冊程序數量
zui多可注冊 2000 個程序
信息組數量/程序
256 組/ 程序
I/O 輸入輸出
端子臺輸入輸出/MIL 接頭輸入輸出/接觸器控制輸入輸出*3
接口
RS-232C/USB2.0/Ethernet ( 100BASE-TX/10BASE-T)*4
刻印頭安裝方向
任何方向
刻印頭電纜長度
4.3 ±0.1 m
冷卻方式
通風冷卻
額定電壓/額定功率消耗
100 120/200 240 VAC ±10 %、50/60 Hz、zui大 650 VA
環境抗耐性
外殼防護
IP64 (刻印頭部)
污染等
2
過電壓類別
II
存放環境溫度
-10 +60 °C (無凍結)
環境溫度
0 +40 °C
存放環境濕度
30 85 % RH (無凝結)
相對濕度
重量
控制器:23.0 kg
刻印頭:13.6 kg
控制臺:2.0 kg
控制器:23.0 kg
刻印頭:13.9 kg
控制臺:2.0 kg
采用*的密閉方式,可保護光學部分。不受灰塵或污垢、水滴等的影響,實現了在惡劣環境下也可穩定運行的環境耐抗。與光纖激光刻印機 MD-F3100/F5100 系列的無風扇刻印頭具有相同的外殼防護。

 

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